志业光电公司总工程师刘怀道从事光学刻划专业技术工作五十余年，在长期技术实践中积累了丰富经验撰写发表有多篇学术论文，并与曹向群、钟旭、陈林、黄唯实、金彤等专家学者合作出版《刻划照相光刻》、《光学刻划技术论文精选》等理论著作；还曾应邀参与撰写大型工具书《现代光学应用技术手册》中的相关篇章，形成了丰厚的理论积淀。

刘怀道与上海理工大学黄卫佳教授共同担任了中国光学分划零件国家标准（GB/T 11162-2009）的主要起草人

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刘怀道作为建议人之一，参与了邹志强等专家学者向国家科技部呈报《关于计量光栅技术立项的建议书》，对推动我国光刻事业的发展起了积极作用。

志业光电公司针对本专业前沿技术和新的研究课题经常举办高端学术论坛，开展学术交流和技术研讨，在深厚的理论基础上不断技术创新，创建了本企业独特的光学刻划工艺技术应用体系。