精湛的工艺技术
光刻技术从古老的蜘蛛丝分划到现代亚微米级图形、纳米级精度的精密光刻，经历了近两个世纪的发展历程。志业光电公司经过多年研究探索，坚持传统工艺，发展现代技术，注重两者的有机结合，形成了志业独特的超微细图形加工技术。
本企业既有虫胶（SHELLAC）,聚乙烯醇（P.V.A.）常规照相复制，也具备e谱线光刻超微粒干片，G谱线，H谱线正、负光刻胶系列。既有机械化学法刻蚀图形，也具备高精度双频激光定位电子束精密光刻系统。既有D450等常规高真空镀膜机,也具备磁控溅射成膜技术等高精密薄膜工艺。用具有本企业特色的工艺技术成功解决了各种高难度元件的研制和生产。
基片材料多元化。从常规光学玻璃（K9,BaK7）,光学石英玻璃，单色光学玻璃（红，绿，黄）等普通光谱载体到锗晶体，白宝石，氟化镁，硫化锌等远紫外、远红外光谱区的材料应用，扩展了光刻图形的应用领域和实用范围。由于工艺技术齐全，经过多年的努力，本企业的产品品种达数千种，同时能生产各种高难度，特殊化的光刻元件。具备了生产超小型元件（直径为2.8mm）,超薄型元件(厚度为0.4mm), 超大型元件(直径420mm, 面积达12平方英寸) 等高精度, 大批量产出的能力。 实现了客户图纸－工艺设计－母板制作－批量生产－精密检测的现代化生产流程。 |
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